Alumina Ceramic ສູນຍາກາດ Chuck

Alumina Ceramic Vacuum Chuck ເປັນຜູ້ຖື wafer ສໍາລັບຂະບວນການ epitaxial ໃນການປຸງແຕ່ງ semiconductor. ມັນເປັນເຄື່ອງມືທີ່ສໍາຄັນສໍາລັບການສະຖຽນລະພາບຂອງ wafers ແລະຮັບປະກັນການຂະຫຍາຍຕົວເປັນເອກະພາບຂອງຊັ້ນ epitaxial. ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸປະກອນ epitaxial ເຊັ່ນ:MOCVDແລະLPCVD.

VeTek SemiconductorAlumina Ceramic Vacuum Chuck ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນຂັ້ນຕອນການຂັດຂອງ wafer ບາງໆແລະບົດຂອງການຜະລິດ semiconductor. ຂັ້ນ​ຕອນ​ເຫຼົ່າ​ນີ້​ມີ​ສ່ວນ​ຮ່ວມ​ຢ່າງ​ຊັດ​ເຈນ​ການ​ຫຼຸດ​ຜ່ອນ​ຄວາມ​ຫນາ​ຂອງ​wafer substrateເພື່ອເສີມຂະຫຍາຍການກະຈາຍຄວາມຮ້ອນຂອງຊິບ, ເຊິ່ງເປັນສິ່ງຈໍາເປັນເພື່ອປັບປຸງປະສິດທິພາບແລະຊີວິດຂອງອຸປະກອນ semiconductor.

ເຂົ້າກັນໄດ້ກັບຫຼາຍຂະຫນາດ Wafer: VeTek Semiconductor Alumina Ceramic Vacuum Chuck ຖືກອອກແບບມາເພື່ອຮອງຮັບຂະຫນາດຂອງ wafer ທີ່ກວ້າງຂວາງ, ລວມທັງ 2, 3, 4, 5, 6, 8, ແລະ 12 ນິ້ວ. ການປັບຕົວນີ້ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມກັບສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດ semiconductor ທີ່ຫລາກຫລາຍ, ຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງແລະເຊື່ອຖືໄດ້ໃນທົ່ວຂະຫນາດ wafer ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.

ອົງປະກອບຂອງວັດສະດຸຊັ້ນສູງ: ພື້ນຖານຂອງ Alumina Ceramic Vacuum Chuck ແມ່ນເຮັດຈາກອາລູມິນຽມບໍລິສຸດ 99.9999% (Al₂O₃), ເຊິ່ງສະຫນອງຄວາມຕ້ານທານທີ່ດີເລີດຕໍ່ກັບການໂຈມຕີທາງເຄມີແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນ. ພື້ນຜິວ chuck ແມ່ນເຮັດດ້ວຍ porousຊິລິຄອນຄາໄບ (SiC). ວັດສະດຸເຊລາມິກ porous ມີໂຄງສ້າງທີ່ຫນາແຫນ້ນແລະເປັນເອກະພາບ, ເຊິ່ງປັບປຸງຄວາມທົນທານແລະການປະຕິບັດຂອງມັນ.

ຜົນປະໂຫຍດຂອງເທກໂນໂລຍີເຊລາມິກ Porous：

ຄວາມບໍລິສຸດແລະທົນທານຂອງວັດສະດຸ: ເຮັດຈາກອາລູມິນຽມບໍລິສຸດ 99.99%, Alumina Ceramic Vacuum Chuck ຂອງພວກເຮົາທົນທານຕໍ່ການໂຈມຕີທາງເຄມີແລະສະຫນອງຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດທີ່ມີຄວາມຕ້ອງການທີ່ສຸດ.

Porosity ທີ່ດີທີ່ສຸດແລະການ permeability ທາງອາກາດ: micropores ແຈກຢາຍຢ່າງເທົ່າທຽມກັນສະຫນອງການ permeability ອາກາດທີ່ດີເລີດແລະຜົນບັງຄັບໃຊ້ adsorption ເປັນເອກະພາບ, ຜົນອອກມາໃນການດໍາເນີນງານກ້ຽງແລະສອດຄ່ອງ.

ປັບປຸງຄວາມລຽບ ແລະຂະໜານ: Microporous Alumina Ceramic Vacuum Chucks ມີຄວາມຮາບພຽງດີເລີດແລະຂະຫນານ, ຮັບປະກັນການຈັດການ wafer ທີ່ຊັດເຈນແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງ.

ຄວາມສາມາດໃນການບໍລິການທີ່ກໍາຫນົດເອງ: VeTekSemi ສາມາດສະຫນອງຄວາມຫລາກຫລາຍຂອງຮູບຮ່າງທີ່ສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້, ລວມທັງຮອບ, ສີ່ຫລ່ຽມ, ວົງແຫວນແລະການອອກແບບອື່ນໆ, ມີຄວາມຫນາຕັ້ງແຕ່ 3MM ຫາ 10MM. ການປັບແຕ່ງນີ້ຮັບປະກັນວ່າເຄື່ອງດູດຝຸ່ນ alumina ceramic ຂອງພວກເຮົາຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ທີ່ແຕກຕ່າງກັນແລະແນ່ນອນແມ່ນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມຂອງທ່ານ.

VeTek Semiconductorມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງເຕັກໂນໂລຢີທີ່ກ້າວຫນ້າແລະການແກ້ໄຂຜະລິດຕະພັນສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor, ແລະພວກເຮົາຫວັງຢ່າງຈິງໃຈທີ່ຈະເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໃນໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.

ໄດ້ສູດເຄມີຂອງອາລູມີນາເຊລາມິກ：

VeTek SemiconductorAlumina Ceramic Vacuum Chuck ຮ້ານ: