ຈີນ ເທກໂນໂລຍີການປິ່ນປົວຜິວຫນ້າ ຜູ້ຜະລິດ, ຜູ້ສະໜອງ, ໂຮງງານ

View as

ການປ່ອຍອາຍທາງກາຍ

Vetek semiconductor Physical Vapor Deposition (PVD) ແມ່ນເຕັກໂນໂລຍີຂະບວນການທີ່ກ້າວຫນ້າທີ່ໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການປິ່ນປົວພື້ນຜິວແລະການກະກຽມຮູບເງົາບາງໆ. ເທກໂນໂລຍີ PVD ໃຊ້ວິທີການທາງກາຍະພາບເພື່ອຫັນປ່ຽນວັດສະດຸໂດຍກົງຈາກແຂງຫຼືຂອງແຫຼວໄປສູ່ອາຍແກັສແລະປະກອບເປັນຮູບເງົາບາງໆຢູ່ດ້ານຂອງ substrate ເປົ້າຫມາຍ. ເທກໂນໂລຍີນີ້ມີຄວາມໄດ້ປຽບຂອງຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ຄວາມເປັນເອກະພາບສູງແລະການຍຶດຫມັ້ນທີ່ເຂັ້ມແຂງ, ແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນ semiconductors, ອຸປະກອນ optical, ການເຄືອບເຄື່ອງມືແລະການເຄືອບຕົກແຕ່ງ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບເພື່ອປຶກສາຫາລືກັບພວກເຮົາ!

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

MAX Phase Nanopowder

nanopowder ໄລຍະ Semiconductor MAX ຂອງ Veteksemi ສະຫນອງຄຸນສົມບັດຄວາມຮ້ອນແລະໄຟຟ້າພິເສດ, ເຫມາະສໍາລັບການນໍາໃຊ້ວິທະຍາສາດດ້ານເອເລັກໂຕຣນິກແລະວັດສະດຸທີ່ກ້າວຫນ້າ. ດ້ວຍຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງທີ່ດີກວ່າແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງ, nanopowder Veteksemi ແມ່ນການແກ້ໄຂທີ່ສົມບູນແບບສໍາລັບເຕັກໂນໂລຢີ semiconductor ນະວັດຕະກໍາ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມພວກເຮົາ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ເຕັກໂນໂລຊີສີດຄວາມຮ້ອນ MLCC capacitor

ເທກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນຂອງ Vetek Semiconductor ມີບົດບາດສໍາຄັນຫຼາຍໃນການນໍາໃຊ້ການເຄືອບຂອງ crucibles sintered ສໍາລັບອຸປະກອນ capacitor ceramic multilayer (MLCC). ດ້ວຍການເຮັດຂະໜາດນ້ອຍຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງ ແລະປະສິດທິພາບສູງຂອງອຸປະກອນອີເລັກໂທຣນິກ, ຄວາມຕ້ອງການຂອງເທັກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນ MLCC capacitors ກໍາລັງເຕີບໂຕຢ່າງໄວວາ, ໂດຍສະເພາະໃນການນໍາໃຊ້ລະດັບສູງ. ເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການນີ້, crucibles ທີ່ໃຊ້ໃນຂະບວນການ sintering ຈະຕ້ອງມີຄວາມທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງທີ່ດີເລີດ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ແລະ conductivity ຄວາມຮ້ອນທີ່ດີ, ທັງຫມົດສາມາດບັນລຸແລະປັບປຸງໂດຍເຕັກໂນໂລຊີສີດຄວາມຮ້ອນ. ຫວັງວ່າຈະຕັ້ງທຸລະກິດໄລຍະຍາວກັບທ່ານ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

Wafer Handling ແຂນຫຸ່ນຍົນ

ເທກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນ Vetek Semiconductor ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການນໍາໃຊ້ wafer ການຈັດການແຂນຫຸ່ນຍົນ, ໂດຍສະເພາະໃນສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການຄວາມແມ່ນຍໍາສູງແລະຄວາມສະອາດສູງ. ເທກໂນໂລຍີນີ້ຊ່ວຍປັບປຸງຄວາມທົນທານ, ຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືແລະປະສິດທິພາບການເຮັດວຽກຂອງອຸປະກອນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍໂດຍການເຄືອບວັດສະດຸພິເສດໃນດ້ານຂອງແຂນຫຸ່ນຍົນຂອງ wafer. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມພວກເຮົາ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

ເທກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນຂອງ Semiconductor

ເທກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນຂອງ Vetek Semiconductor Semiconductor ແມ່ນຂະບວນການທີ່ກ້າວຫນ້າທີ່ສີດວັດສະດຸໃນສະພາບທີ່ molten ຫຼືເຄິ່ງ molten ເຂົ້າໄປໃນພື້ນຜິວຂອງ substrate ເພື່ອສ້າງການເຄືອບ. ເທກໂນໂລຍີນີ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການຜະລິດ semiconductor, ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ເພື່ອສ້າງການເຄືອບທີ່ມີຫນ້າທີ່ສະເພາະຢູ່ດ້ານຂອງ substrate, ເຊັ່ນ conductivity, insulation, corrosion resistance, and oxidation resistance. ຂໍ້ໄດ້ປຽບຕົ້ນຕໍຂອງເທກໂນໂລຍີການສີດຄວາມຮ້ອນປະກອບມີປະສິດທິພາບສູງ, ຄວາມຫນາຂອງເຄືອບທີ່ສາມາດຄວບຄຸມໄດ້, ແລະການຍຶດເກາະທີ່ດີ, ເຮັດໃຫ້ມັນມີຄວາມສໍາຄັນໂດຍສະເພາະໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືສູງ. ລໍຖ້າການສອບຖາມຂອງທ່ານ.

ອ່ານຕື່ມ ສົ່ງສອບຖາມ

<1 >

ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ ເທກໂນໂລຍີການປິ່ນປົວຜິວຫນ້າ ມືອາຊີບໃນປະເທດຈີນ, ພວກເຮົາມີໂຮງງານຜະລິດຂອງພວກເຮົາເອງ. ບໍ່ວ່າທ່ານຕ້ອງການບໍລິການທີ່ກໍາຫນົດເອງເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງພາກພື້ນຂອງທ່ານຫຼືຕ້ອງການຊື້ ເທກໂນໂລຍີການປິ່ນປົວຜິວຫນ້າ ທີ່ກ້າວຫນ້າແລະທົນທານທີ່ຜະລິດໃນປະເທດຈີນ, ທ່ານສາມາດຝາກຂໍ້ຄວາມໃຫ້ພວກເຮົາ.