ການເຄືອບ TaC ແມ່ນຫຍັງ?

ການເຄືອບ TaC (ການເຄືອບ Tantalum Carbide) ແມ່ນອຸປະກອນການເຄືອບທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ຜະລິດໂດຍຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD). ເນື່ອງຈາກຄຸນສົມບັດທີ່ດີເລີດຂອງການເຄືອບ TaC ພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂທີ່ຮຸນແຮງ, ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor, ໂດຍສະເພາະໃນອຸປະກອນແລະອົງປະກອບທີ່ຕ້ອງການອຸນຫະພູມສູງແລະສະພາບແວດລ້ອມ corrosive ທີ່ເຂັ້ມແຂງ. ປົກກະຕິແລ້ວການເຄືອບ TaC ຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອປົກປ້ອງ substrate (ເຊັ່ນ: graphite ຫຼື ceramics) ຈາກຄວາມເສຍຫາຍໂດຍອຸນຫະພູມສູງ, ທາດອາຍຜິດ corrosive ແລະການສວມໃສ່ກົນຈັກ.

ຄຸນສົມບັດ ແລະຂໍ້ດີຂອງຜະລິດຕະພັນ

ສະຖຽນລະພາບຄວາມຮ້ອນສູງທີ່ສຸດ:

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ຄຸນ​ສົມ​ບັດ​: ການ​ເຄືອບ TaC ມີ​ຈຸດ​ລະ​ລາຍ​ຫຼາຍ​ກ​່​ວາ 3880 ° C ແລະ​ສາ​ມາດ​ຮັກ​ສາ​ຄວາມ​ຫມັ້ນ​ຄົງ​ໂດຍ​ບໍ່​ມີ​ການ​ເສື່ອມ​ສະ​ພາບ​ຫຼື​ການ​ເສຍ​ຮູບ​ພາບ​ໃນ​ສະ​ພາບ​ແວດ​ລ້ອມ​ທີ່​ມີ​ອຸນ​ຫະ​ພູມ​ສູງ​ທີ່​ສຸດ​.

ຂໍ້ໄດ້ປຽບ: ນີ້ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນວັດສະດຸທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ໃນອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ CVD TaC Coating ແລະ TaC Coated Susceptor, ໂດຍສະເພາະສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກໃນເຄື່ອງປະຕິກອນ MOCVD ເຊັ່ນອຸປະກອນ Aixtron G5.

ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ທີ່ດີເລີດ:

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ຄຸນ​ນະ​ສົມ​ບັດ​: TaC ມີ inertness ທາງ​ເຄ​ມີ​ທີ່​ເຂັ້ມ​ແຂງ​ທີ່​ສຸດ​ແລະ​ມີ​ປະ​ສິດ​ທິ​ຜົນ​ສາ​ມາດ​ຕ້ານ​ການ​ເຊາະ​ເຈື່ອນ​ຂອງ​ທາດ​ອາຍ​ຜິດ​ທີ່​ເປັນ​ທາດ​ເຫຼັກ​ເຊັ່ນ chlorides ແລະ fluorides​.

ຂໍ້ໄດ້ປຽບ: ໃນຂະບວນການ semiconductor ທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບສານເຄມີ corrosive ສູງ, ການເຄືອບ TaC ປົກປ້ອງອົງປະກອບອຸປະກອນຈາກການໂຈມຕີສານເຄມີ, prolongs ຊີວິດການບໍລິການແລະປັບປຸງຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການ, ໂດຍສະເພາະໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງ Silicon Carbide Wafer Boat ແລະອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນອື່ນໆ.

ຄວາມແຂງຂອງກົນຈັກທີ່ດີເລີດ:

ລາຍລະອຽດຄຸນສົມບັດ: ຄວາມແຂງຂອງເຄືອບ TaC ແມ່ນສູງເຖິງ 9-10 Mohs, ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ມັນທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່ກົນຈັກແລະຄວາມກົດດັນຂອງອຸນຫະພູມສູງ.

ຂໍ້ໄດ້ປຽບ: ຄຸນສົມບັດຄວາມແຂງສູງເຮັດໃຫ້ການເຄືອບ TaC ໂດຍສະເພາະແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນສະພາບແວດລ້ອມພັຍສູງແລະຄວາມກົດດັນສູງ, ຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນໄລຍະຍາວແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງອຸປະກອນພາຍໃຕ້ສະພາບທີ່ຮຸນແຮງ.

ປະຕິກິລິຍາເຄມີຕໍ່າ:

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ຄຸນ​ສົມ​ບັດ​: ເນື່ອງ​ຈາກ inertness ທາງ​ເຄ​ມີ​ຂອງ​ຕົນ​, ການ​ເຄືອບ TaC ສາ​ມາດ​ຮັກ​ສາ reactivity ຕໍ່າ​ໃນ​ສະ​ພາບ​ແວດ​ລ້ອມ​ທີ່​ອຸນ​ຫະ​ພູມ​ສູງ​ແລະ​ຫຼີກ​ເວັ້ນ​ການ​ຕິ​ກິ​ຣິ​ຍາ​ທາງ​ເຄ​ມີ​ທີ່​ບໍ່​ຈໍາ​ເປັນ​ທີ່​ມີ​ທາດ​ອາຍ​ຜິດ reactive​.

ຂໍ້ໄດ້ປຽບ: ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນໂດຍສະເພາະໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ເນື່ອງຈາກວ່າມັນຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດຂອງສະພາບແວດລ້ອມຂະບວນການແລະການເກັບຮັກສາວັດສະດຸທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ.

ບົດບາດຂອງການເຄືອບ TaC ໃນການປຸງແຕ່ງ semiconductor

ການປົກປ້ອງອົງປະກອບອຸປະກອນທີ່ສໍາຄັນ:

ຄໍາອະທິບາຍກ່ຽວກັບຫນ້າທີ່: ການເຄືອບ TaC ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນຂອງອຸປະກອນການຜະລິດ semiconductor, ເຊັ່ນ TaC Coated Susceptor, ເຊິ່ງຈໍາເປັນຕ້ອງເຮັດວຽກພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂທີ່ຮຸນແຮງ. ໂດຍການເຄືອບດ້ວຍ TaC, ອົງປະກອບເຫຼົ່ານີ້ສາມາດເຮັດວຽກເປັນເວລາດົນນານໃນອຸນຫະພູມສູງແລະສະພາບແວດລ້ອມອາຍແກັສ corrosive ໂດຍບໍ່ມີການເສຍຫາຍ.

ຍືດອາຍຸອຸປະກອນ:

ຄໍາອະທິບາຍຫນ້າທີ່: ໃນອຸປະກອນ MOCVD ເຊັ່ນ Aixtron G5, TaC Coating ສາມາດປັບປຸງຄວາມທົນທານຂອງອົງປະກອບຂອງອຸປະກອນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍແລະຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຕ້ອງການສໍາລັບການບໍາລຸງຮັກສາອຸປະກອນແລະການທົດແທນເນື່ອງຈາກການກັດກ່ອນແລະການສວມໃສ່.

ປັບປຸງຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການ:

ຄໍາອະທິບາຍຫນ້າທີ່: ໃນການຜະລິດ semiconductor, ການເຄືອບ TaC ຮັບປະກັນຄວາມສອດຄ່ອງແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຂະບວນການເງິນຝາກໂດຍການສະຫນອງອຸນຫະພູມສູງທີ່ຫມັ້ນຄົງແລະສະພາບແວດລ້ອມທາງເຄມີ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນໂດຍສະເພາະໃນຂະບວນການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ epitaxy ເຊັ່ນ silicon epitaxy ແລະ gallium nitride (GaN).

ປັບປຸງປະສິດທິພາບຂະບວນການ:

ຄໍາອະທິບາຍຫນ້າທີ່: ໂດຍການເພີ່ມປະສິດທິພາບການເຄືອບເທິງຫນ້າດິນຂອງອຸປະກອນ, TaC Coating ສາມາດປັບປຸງປະສິດທິພາບໂດຍລວມຂອງຂະບວນການ, ຫຼຸດຜ່ອນອັດຕາການຜິດປົກກະຕິ, ແລະເພີ່ມຜົນຜະລິດຂອງຜະລິດຕະພັນ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການຜະລິດວັດສະດຸ semiconductor ທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ຄວາມບໍລິສຸດສູງ.

ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ທີ່ດີເລີດ, ຄວາມແຂງກະດ້າງກົນຈັກແລະປະຕິກິລິຍາເຄມີຕ່ໍາທີ່ສະແດງໂດຍ TaC Coating ໃນລະຫວ່າງການປຸງແຕ່ງ semiconductor ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການປົກປັກຮັກສາອົງປະກອບອຸປະກອນການຜະລິດ semiconductor. ເນື່ອງຈາກຄວາມຕ້ອງການຂອງອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ສໍາລັບອຸນຫະພູມສູງ, ຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະຂະບວນການຜະລິດທີ່ມີປະສິດທິພາບຍັງສືບຕໍ່ເພີ່ມຂຶ້ນ, TaC Coating ມີຄວາມສົດໃສດ້ານການນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງ, ໂດຍສະເພາະໃນອຸປະກອນແລະຂະບວນການທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບການເຄືອບ CVD TaC, TaC Coated Susceptor ແລະ Aixtron G5.

VeTek semiconductor Technology Co., LTD ເປັນຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຊັ້ນນໍາຂອງວັດສະດຸເຄືອບຊັ້ນນໍາສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor. ບໍລິສັດຂອງພວກເຮົາສຸມໃສ່ການພັດທະນາການແກ້ໄຂທີ່ທັນສະ ໄໝ ສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ.

ການສະເຫນີຜະລິດຕະພັນຕົ້ນຕໍຂອງພວກເຮົາປະກອບມີການເຄືອບ CVD silicon carbide (SiC), ການເຄືອບ tantalum carbide (TaC), SiC ສ່ວນໃຫຍ່, ຜົງ SiC, ແລະວັດສະດຸ SiC ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, SiC coated graphite susceptor, preheat rings, TaC coated diversion ring, halfmoon parts, ແລະອື່ນໆ ., ຄວາມບໍລິສຸດແມ່ນຕ່ໍາກວ່າ 5ppm, ສາມາດຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ.

VeTek semiconductor ສຸມໃສ່ການພັດທະນາເຕັກໂນໂລຊີທີ່ທັນສະໄຫມແລະການແກ້ໄຂການພັດທະນາຜະລິດຕະພັນສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor.ພວກເຮົາຫວັງຢ່າງຈິງໃຈທີ່ຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມມືໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.