Silicon On Insulator Wafer

ຫຼັກ​ການ​ເຮັດ​ວຽກ​ຂອງ​VeTek SemiconductorຂອງSilicon On Insulator Waferສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນອີງໃສ່ໂຄງສ້າງແລະຄຸນສົມບັດວັດສະດຸທີ່ເປັນເອກະລັກຂອງມັນ. ແລະ SOI waferປະກອບດ້ວຍສາມຊັ້ນ: ຊັ້ນເທິງແມ່ນຊັ້ນອຸປະກອນຊິລິໂຄນແກ້ວດຽວ, ຊັ້ນກາງແມ່ນຊັ້ນ insulating Buried OXide (BOX), ແລະຊັ້ນລຸ່ມແມ່ນຊັ້ນຮອງຂອງຊິລິຄອນ.

ການສ້າງຕັ້ງຂອງຊັ້ນ insulation: Silicon On Insulator Wafer ປົກກະຕິແລ້ວແມ່ນຜະລິດໂດຍໃຊ້ເທັກໂນໂລຍີ Smart Cut™ ຫຼື SIMOX (Separation by IMplanted OXygen). ເທັກໂນໂລຍີ Smart Cut™ ສັກຢາໄອອອນໄຮໂດຣເຈນເຂົ້າໄປໃນ wafer ຊິລິຄອນເພື່ອສ້າງເປັນຊັ້ນຟອງ, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນຜູກມັດ wafer ທີ່ສີດ hydrogen ກັບຊິລິຄອນ wafer ສະຫນັບສະຫນູນ. ຫຼັງຈາກການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນ, wafer ທີ່ສີດ hydrogen ຖືກແຍກອອກຈາກຊັ້ນຟອງເພື່ອສ້າງໂຄງສ້າງ SOI. ເຕັກໂນໂລຍີ SIMOX ປູກເອົາໄອອອນອົກຊີເຈນທີ່ມີພະລັງງານສູງເຂົ້າໄປໃນ wafers ຊິລິໂຄນເພື່ອສ້າງເປັນຊັ້ນຊິລິໂຄນອອກໄຊໃນອຸນຫະພູມສູງ.

ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມອາດສາມາດຂອງແມ່ກາຝາກ: ຊັ້ນ BOX ຂອງSilicon On Insulator Waferແຍກຊັ້ນອຸປະກອນແລະຊິລິໂຄນພື້ນຖານຢ່າງມີປະສິດທິພາບ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຈຸຂອງແມ່ກາຝາກຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ. ການໂດດດ່ຽວນີ້ຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນການໃຊ້ພະລັງງານ ແລະເພີ່ມຄວາມໄວ ແລະປະສິດທິພາບຂອງອຸປະກອນ.

ຫຼີກ​ລ້ຽງ​ການ​ເກີດ​ຜົນ​ກະ​ທົບ latch-up​: ອຸປະກອນ n-well ແລະ p-well ໃນSOI waferແມ່ນຢູ່ໂດດດ່ຽວຢ່າງສິ້ນເຊີງ, ຫຼີກເວັ້ນການຜົນກະທົບຂອງ latch-up ໃນໂຄງສ້າງ CMOS ແບບດັ້ງເດີມ. ນີ້ອະນຸຍາດໃຫ້Silicon On Insulator  Wafer ທີ່ຈະຜະລິດດ້ວຍຄວາມໄວສູງ.

ຟັງຊັນຢຸດ Etch: ຊັ້ນອຸປະກອນຊິລິໂຄນ crystal ດຽວແລະໂຄງສ້າງຊັ້ນ BOX ຂອງ SOI wafer ອໍານວຍຄວາມສະດວກໃນການຜະລິດ MEMS ແລະອຸປະກອນ optoelectronic, ສະຫນອງການທໍາງານການຢຸດ etch ທີ່ດີເລີດ.

ໂດຍຜ່ານລັກສະນະເຫຼົ່ານີ້,Silicon On Insulator Waferມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການປຸງແຕ່ງ semiconductor ແລະສົ່ງເສີມການພັດທະນາຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງຂອງວົງຈອນປະສົມປະສານ (IC) ແລະລະບົບເຄື່ອງກົນຈັກຈຸນລະພາກ (MEMS). ພວກເຮົາຫວັງຢ່າງຈິງໃຈທີ່ຈະຕິດຕໍ່ສື່ສານ ແລະການຮ່ວມມືກັບເຈົ້າຕື່ມອີກ.

ຕົວກໍານົດການຜະລິດຕະພັນ：

ຮ້ານຜະລິດ:

ພາບລວມຂອງລະບົບຕ່ອງໂສ້ອຸດສາຫະກໍາຊິບ semiconductor epitaxy：